英伟达、台积电、博通、海力士、阿斯麦、中芯国际等48家半导体企业2025年第二季度和上半年财报业绩汇总
英伟达(NVIDIA)发布截至2025年7月27日的第二财季业绩。季度营收为467.43亿美元,与上年同期的300.4亿美元相比增长56%,与上季度的440.62亿美元相比增长6%。季度营业利润为284.4亿美元,与上年同期的186.42亿美元相比增长53%,
英伟达(NVIDIA)发布截至2025年7月27日的第二财季业绩。季度营收为467.43亿美元,与上年同期的300.4亿美元相比增长56%,与上季度的440.62亿美元相比增长6%。季度营业利润为284.4亿美元,与上年同期的186.42亿美元相比增长53%,
商务部对原产于美国的进口相关模拟芯片发起反倾销立案调查,是中美科技与贸易博弈背景下的重要举措,对A股市场的影响是多维度且具有层次性的。
美国的‘制裁大棒’挥久了,终会碰到中国的‘规则盾牌’,中国市场从不是‘倾销垃圾场’,更不是被卡脖子的‘软柿子’,当行业协会喊出‘支持’,藏着的是整个产业链的底气与骨气。
被列入实体清单的23家企业中,有13家是半导体与集成电商相关企业,包括复旦微电子在多个城市的公司,以及上海华岭集成电路、吉姆西半导体科技、楠菲微电子等。
TOK提供多种类型的光刻胶,以满足各种光刻需求。这包括正胶、负胶、i-线、g-线、深紫外线(DUV)和极紫外线(EUV)光刻胶等。
时间9月12日,美国商务部工业与安全局(BIS)再次挥舞制裁大棒,将 23 家中国实体列入实体清单。
今天财官和大家聊聊上海BL,公司主营模拟及功率芯片的设计及开发,重点聚焦电源管理、信号链产品和功率器件三大领域,产品应用场景特别广。$上海贝岭
9月12日晚间,美国美光公司向渠道发出通知,全线存储产品价格即将上调20%-30%,并暂停所有产品报价。这是继闪迪宣布NAND芯片涨价10%后,行业又一重磅消息。涨价突然且幅度大,瞬间引发全球市场关注。
本项目拟在辽宁省沈阳市浑南区新建产业化基地,包括生产洁净间、立体库房、测试实验室等,并引入先进的生产配套软硬件,打造规模化、智能化、数字化的高端半导体设备产业化基地。
作为金刚石工具领域的顶尖专家,赛索尔成功研发出CMP钻石碟,全球销量第一。
9月11日晚间,康强电子(002119.SZ)披露的司法拍卖公告,再次将“私募一哥”徐翔的资产处置进程推向公众视野。
大消费板块中,古井贡酒获华创证券“强推”,看高目标价位至300元;泸州老窖同样获“强推”,显示机构对白酒龙头依然乐观。比亚迪被东吴证券列为“买入”,其在新能源整车与电池领域的领先地位备受认可。公牛集团、珀莱雅、格力电器等知名消费品牌也纷纷上榜。
晶圆显影过#热问计划#程是光刻工序中必不可少的步骤,显影过程已经经历了几十年的创新和进步。那么常见的显影方式有几种?显影液的种类有哪些?显影的机理是什么?显影主要的控制因素有哪些?
最近,有研发的朋友遇到了一个难题:在晶圆做完cp测试后,在切割编带时,需要cp测试的map作为编带的依据,即符合cp测试标准#热问计划#的就编带,不符合cp测试标准的就留在切割完的晶圆上不编带。但是,cp标准是在probe上设定好的,导出的map图也都是根据p
昨天人工智能这么强,没想到今天还在涨,半导体要不是最后回落了,今天又是顶流。所以把握主线真的很重要。虽然不知道人工智能还能涨多久,说句难听点,当下市场可能大部分板块一年的涨幅,都不及半导体本周的涨幅,并不是说其它板块不好,而是在同样的情况下,没有人会嫌赚得少,
近期全球芯片股“超级牛市行情”激情演绎的时刻,尤其是与AI训练/推理系统密切相关联的半导体/芯片股涨势如虹之际,高盛最新发布的半导体行业研报可谓为无比火热的AI看涨情绪“再添一把火”。在该机构举办的覆盖全球最顶尖半导体公司的Communacopia + Tec
序代码名称最新涨幅%所属行业今日增仓占比1603959百利科技5.879.93工程咨询服务56.542603359东珠生态11.159.96环保行业55.943603006联明股份15.7210.01汽车零部件44.374834407驰诚股份26.3329.9
宝子们下午好呀,不知不觉,沪指就已经拿下了前段时间3888.60的阶段高点,再创阶段新高,所以嘛,什么大盘都在说886,结束了,没盼头了,都是过度解读,自己吓自己,行情走牛的背景下,动来动去,猜来猜去,实在是没有必要,反而容易出错,每一次盘整其实都是查漏补缺的
当美国政府以89亿美元收购英特尔10%股份,成为其最大股东时,全球半导体产业正式迈入“国家资本主义” 竞争时代。这一事件不仅凸显了芯片技术的战略地位,更揭示了产业链自主可控的紧迫性。在此背景下,中国信创产业的核心——国产芯片的突围显得尤为重要。长期以来,国产芯
以 0.13μm 制程、4 个金属层的 CMOS 芯片为例,它的 474 道制造工序里,212 步与光刻曝光直接相关,105 步依赖光刻胶图案转移